থার্মোকলসগুলির জন্য ফটোভোলটাইক সরঞ্জামগুলির মূল প্রয়োজনীয়তা: ফটোভোলটাইক উত্পাদন প্রক্রিয়া উচ্চ তাপমাত্রা এবং ক্ষয়কারী পরিবেশ জড়িত এবং থার্মোকলগুলির কার্যকারিতা কঠোর:
1। উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধের
মনোক্রিস্টালাইন সিলিকন গ্রোথ ফার্নেস (ক্রিস্টাল পুলিং ফার্নেস) এর তাপমাত্রা 1500 ডিগ্রির বেশি এবং ** বি টাইপ (প্ল্যাটিনাম রোডিয়াম {1}}} প্ল্যাটিনাম রোডিয়াম 6) বা এস টাইপ (প্ল্যাটিনাম রোডিয়াম {3}}}} প্ল্যাটিনাম) থার্মোকুবলগুলি ব্যবহার করা হয়।
সেল সিনটারিং প্রক্রিয়াটির তাপমাত্রা প্রায় 800-1000 ডিগ্রি, এবং কে-টাইপ (নিকেল-ক্রোমিয়াম-নিকেল-সিলিকন) বা এন-টাইপ (নিকেল-ক্রোমিয়াম-সিলিকন-নিকেল-সিলিকন) থার্মোকলগুলি সাধারণত ব্যবহৃত হয়।
2। জারা প্রতিরোধের
সিলিকন বাষ্প এবং অ্যাসিড গ্যাস সিলিকন গন্ধ এবং আবরণ প্রক্রিয়াতে উপস্থিত থাকে এবং থার্মোকল শিট উপাদানগুলি জারা-প্রতিরোধী হওয়া দরকার (যেমন সিরামিকস, উচ্চ-বিশুদ্ধতা অ্যালুমিনা, কোয়ার্টজ টিউব)।
3। দীর্ঘমেয়াদী স্থিতিশীলতা
ফটোভোলটাইক সরঞ্জামগুলি অবিচ্ছিন্নভাবে পরিচালিত হয় এবং থার্মোকলকে নির্ভুলতা বজায় রাখতে হবে (ত্রুটি)<± 1.5°C) at high temperatures, and the life span is usually 1-3 years.
ফটোভোলটাইক সরঞ্জামগুলির জন্য থার্মোকলগুলির প্রধান প্রয়োগের পরিস্থিতি
প্রক্রিয়া লিঙ্ক তাপমাত্রা পরিসীমা থার্মোকল টাইপ প্রযুক্তিগত প্রয়োজনীয়তা
মনোক্রিস্টালাইন সিলিকন 1400-1600 ডিগ্রি এস-টাইপ, বি-টাইপ উচ্চ নির্ভুলতা, কম ড্রিফ্ট
সেল সিনটারিং 800-1000 ডিগ্রি কে-টাইপ, এন-টাইপ দ্রুত প্রতিক্রিয়া, অ্যান্টি-অক্সিডেশন